梁云鹏¹，曹时义²，王俊锋²，王启民¹，代  伟¹

(1. 广东工业大学，广东 广州 510006；2. 广东鼎泰高科技术股份有限公司，广东 东莞 523900)

摘  要：采用脉冲电弧沉积技术制备了TiSiN涂层，研究了不同沉积参数(负偏压、靶电流及脉宽)对涂层结构和性能的影响。利用电子能谱仪、X射线衍射仪、纳米压痕仪、划痕仪等对涂层成分、结构、力学性能及结合力等参数进行了表征。结果表明，负偏压的增大引起TiSiN涂层内应力增大，表面刻蚀效果增强，涂层表面粗糙度上升且涂层硬度下降。靶电流的增加使涂层沉积速率上升，涂层表面大颗粒增加，粗糙度上升。脉宽减少后涂层内应力下降，涂层硬度从31 GPa升至40 GPa，涂层结合力得到增强。通过优化脉冲电弧沉积参数，适当采用低负偏压、低脉宽及低靶电弧，可获得高硬度、低应力、结合力强及表面光滑的TiSiN涂层。

关键词：多弧离子镀；TiSiN涂层；负偏压；涂层硬度；涂层结合力