黄俊杰1, 4，张 浩1, 4，赵健伟1，何 斌1，王希萌2，肖卓豪3，孔令兵1
(1. 深圳技术大学 新材料与新能源学院，广东 深圳 518118；2. 长春理工大学 中山研究院，广东，中山 528437；
3. 景德镇陶瓷大学 材料科学与工程学院，江西 景德镇 333403；4. 深圳大学 应用技术学院，广东 深圳 518000)
摘 要：采用两步放电等离子烧结(SPS)商业氧化铝粉体，制备了亚微米级透明氧化铝陶瓷。对在1150 ℃～1350 ℃制备的氧化铝陶瓷的微观结构和光学性能进行了系统分析。其中，以50 ℃·min−1的升降温速率在1250 ℃保温60 min制备的样品红外透过率达到80%。以150 ℃·min−1的升降温速率在1250 ℃保温60 min，并经SPS退火(1000 ℃/20 min)的样品则展示较高的总正向透过率，最高值达到83%，接近理论值。而经800 ℃保温3 min和1150 ℃保温60 min制备而得的样品，热刻蚀后晶粒尺寸为0.25 μm、厚度0.8 mm，样品在640 nm的真实直线透过率(RIT)为49%。说明两步SPS烧结法对控制氧化铝的晶粒尺寸和提高样品均匀性具有良好效果。
关键词：氧化铝；放电等离子烧结；总正向透过率；真实直线透过率