过刊浏览
喷雾裂解法制备掺氟氧化锡导电薄膜

曾 涛1,王 硕1,冯诗乐1,施 玮1, 2,陈云霞1, 2,苏小丽1
(1.景德镇陶瓷大学,江西 景德镇 333403;2. 国家日用及建筑陶瓷工程技术研究中心,江西 景德镇 333001)

摘 要:以单丁基三氯化锡、氟化铵、无水甲醇、超纯水为原料制备反应热喷涂液,采用高温喷雾裂解工艺在玻璃基底上制备氟掺杂氧化锡(FTO)透明导电薄膜,研究了氟掺杂浓度对所制备FTO透明导电薄膜光、电性能的影响。研究结果表明,制备透明导电薄膜的最佳工艺参数为:基底温度500 ℃、掺杂浓度24 atom%、锡前体浓度0.5 M、喷涂次数60次及醇水比2 :1,对应的透明导电玻璃方块电阻Rsh=11.3 Ω/sqr,可见光区平均透光率Tave=77.80%,品质因数ФTC=7.2×10-3/Ω,评估指标均接近商品级别。
关键词:喷雾裂解;FTO;方块电阻;透光率;品质因数

  • DOI: 10.13957/j.cnki.tcxb.2016.05.007

  • 查看全文】已下载

打印    收藏      导出BibTex文件      导出EndNote文件      导出XML文件