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常压烧结制备氧化钨陶瓷靶材的致密化研究

尚福亮1, 张忠健2, 杨海涛3

(1.深圳大学材料学院,深圳市特种功能材料重点实验室,广东深圳518060;2.株洲硬质合金集团有限公司,湖南株洲412000)

摘要:采用常压固相烧结工艺,制备出高纯度、高致密度的氧化钨靶材。考察了粉体粒度、成型压强、烧结温度和保温时间等对靶材致密度的影响。测试结果表明,以粒度0.27μm 的粉体为原料,成型压强为60MPa, 烧结温度为1200℃,保温时间为1h 的条件下,可以制备出高致密度的氧化钨靶材,其组成为高纯的单斜晶相。

关键词:靶材;WO3;常压烧结;致密

  • DOI: 10.13957/j.cnki.tcxb.2012.01.08

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