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CVD法氮化硅薄膜制备及性能

杨辉,马青松,葛曼珍

􀀂浙江大学􀀂

摘要:氮化硅薄膜是一种重要的薄膜材料,具有优秀的光电性能、钝化性能和机械性能,将在微电子、光电和材料表面改性领域获得广泛应用。本文着重评述了制备氮化硅薄膜的几种化学气相沉积方法和一些性能。

关键词:氮化硅,薄膜,化学气相沉积, 性能


  • DOI: 10.13957/j.cnki.tcxb.1998.02.009

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