静电雾化沉积制备PbTiO3薄膜的研究
作者: 宫华,黄晖,汪敏强,刘开平编辑:qkzzs发布时间:2005-10-01点击:

 宫华1,黄晖2,汪敏强2,刘开平1
(1.长安大学材料工程系,西安 710054; 2.西安交通大学电子陶瓷与器件教育部重点实验室 710049)

摘  要:采用静电雾化沉积技术制备了PbTiO3薄膜,探索了沉积温度和沉积时间对所制备薄膜的结构和形貌的影响。通过调节制备工艺,制备了多孔和致密的PbTiO3薄膜。测试了所制备钛酸铅薄膜的介电频率特性,在100kHz的介电常数和介电损耗分别为222和0.0247
关键词:静电雾化沉积,钛酸铅,铁电薄膜

  • 查看全文】已下载

打印    收藏      导出BibTex文件      导出EndNote文件
推荐文章更多>>
  • 文章标题测试11-20
最新文章更多>>

通讯地址:江西省景德镇陶瓷大学湘湖校区研究生楼    邮政编码:333403

电话:0798-8491219 传真:0798-8499000 信箱:tcxb_779@163.com

Copyright © 2021-2025 版权所有