氮化硅陶瓷烧结技术研究现状
作者: ​胡晓静编辑:qkzzs发布时间:2026-06-01点击:

胡晓静

(天诺光电材料股份有限公司,山东 济南 250119)

摘  要:氮化硅陶瓷因具有高强度、高热导率、低介电常数、高绝缘、耐磨损、耐腐蚀、生物相容性好等一系列优异的性能,在冶金、半导体、航天航空、机械加工、生物医疗等领域,具有广泛的应用前景。烧结是氮化硅陶瓷制备的重要环节,其工艺参数对材料的结构和性能具有显著影响。本文系统综述了氮化硅陶瓷的各种烧结技术,结合氮化硅的烧结机理分析了不同烧结工艺对氮化硅陶瓷的微观结构和性能的影响,介绍了各种烧结工艺的优势和劣势,并对未来发展进行了展望。

关键词:氮化硅;烧结技术;致密度;热导率


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